光刻机：芯片制造的“工作母机”，中国已实现90nm突破

光刻机：芯片制造的“工作母机”，中国已实现90nm突破

光刻机是芯片制造过程中的关键设备，被誉为芯片制造的“工作母机”。其作用是在硅片上雕刻出成千上万条细如发丝的电路，这些电路是手机、电脑等电子设备中芯片的基础。没有光刻机，就无法制造出这些高科技芯片。

光刻机的工作原理类似于高精度的“照相机”。它首先在硅片上涂上一层对光敏感的材料，然后用紫外线或激光通过光刻掩模，将电路图案投射到硅片上。经过化学处理后，电路图案就会被刻印在硅片上。这一过程需要极高的精度，任何微小的误差都可能导致整个芯片的报废。

由于其技术难度极高，目前全球只有少数几家公司能够制造高端光刻机，如荷兰的ASML、日本的尼康和佳能等。中国在光刻机领域也在积极布局，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）等企业正在努力攻克相关技术难关。

光刻机与普通民众的生活息息相关。当前，手机、电脑等电子设备中的芯片都是由光刻机制造的。随着科技的发展，人们对芯片的需求越来越大，5G、人工智能、自动驾驶等新技术都需要更先进、更强大的芯片来支持。因此，光刻机成为科技进步的重要推动力之一。

虽然光刻机技术难度很高，但中国已经在该领域取得了一些进展。例如，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）已经成功研发出90nm工艺的光刻机。尽管与国际最先进水平仍有差距，但这一突破为我国光刻机技术的发展奠定了基础。