上海微电子光刻机技术新突破！
上海微电子光刻机技术新突破！
近日，上海微电子装备有限公司（SMEE）在光刻机领域再次传来捷报。公司不仅实现了90nm光刻机的量产，还提交了极紫外（EUV）光刻技术相关专利申请，显示出中国在高端光刻机领域的技术突破正在加速推进。
90nm光刻机量产：突破还是落后？
对于SMEE实现90nm光刻机量产的消息，业界看法不一。有人认为这一技术指标与国际先进水平相比显得落后，因为全球领先的光刻机制造商荷兰ASML公司早已进入5nm甚至2nm技术节点。然而，这一突破的意义远不止于技术指标本身。
首先，90nm光刻机的量产意味着中国在光刻机领域实现了从“0”到“1”的跨越。在此之前，中高端光刻机市场几乎被国外巨头垄断，ASML、尼康和佳能三家公司占据了中国99%的市场份额。SMEE的成功打破了这种垄断局面，为国内半导体产业链的自主可控提供了重要支撑。
其次，这款光刻机的国产化率正在逐步提升。核心部件和原材料的国产化，不仅降低了对进口资源的依赖，更提升了供应链的安全性。在当前全球科技竞争加剧、技术封锁频发的背景下，这种突破显得尤为珍贵。
技术突破背后：多方协同创新
SMEE的技术突破并非孤立事件，而是中国光刻机产业协同创新的成果。华为、中芯国际等企业在芯片设计和制造环节的需求反馈，为光刻机研发提供了明确的方向。长春光机所在镜头研发方面的突破，解决了光刻机最关键的技术难题之一。此外，清华大学等高校的人才培养计划，为行业输送了大量专业人才。
面临的挑战与未来展望
尽管取得了重要进展，但中国光刻机产业仍面临诸多挑战。在高端光刻机市场，ASML的EUV光刻机占据绝对主导地位，其2023年系统销售额达219亿欧元，其中EUV机器占比42%。相比之下，中国光刻机的国产化率仅为2.5%，整机技术与海外先进水平仍存在较大差距。
然而，市场需求为国产光刻机提供了广阔的发展空间。据统计，2023年中国光刻机市场规模已突破160.87亿元，进口光刻机数量达225台，进口金额高达87.54亿美元。在国家政策的大力支持下，上海微电子等企业正在加速推进28nm及更先进工艺节点的研发工作。
工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，披露了一台氟化氩光刻机，其分辨率≤65nm、套刻≤8nm，有望用于28nm芯片产线中的部分工艺。这表明中国在成熟制程领域的光刻机国产化已取得实质性进展。
结语
SMEE在光刻机领域的突破，是中国半导体产业自主发展的重要里程碑。虽然与国际先进水平仍有差距，但这一突破不仅提升了国内半导体产业链的自主可控能力，更为未来的技术创新奠定了坚实基础。随着研发投入的持续增加和产业链的不断完善，中国光刻机产业有望在激烈的全球竞争中占据一席之地。