众星联恒10月亮点：深度参与EUV行业盛会，展现光刻技术前沿实力
众星联恒10月亮点：深度参与EUV行业盛会，展现光刻技术前沿实力
2024年10月，众星联恒公司积极参与了多项重要行业活动，包括荷兰EUV光源研讨会、与欧洲合作伙伴的技术交流，以及两个重要的学术会议。这些活动不仅展示了公司在半导体光刻技术领域的最新进展，也为行业内的技术交流和合作提供了重要平台。
荷兰EUV光源研讨会：见证行业前沿技术
作为唯一参加2024 Source Workshop的中国公司，众星联恒在阿姆斯特丹见证了这场EUV/SXR光源研究学术盛会。来自欧美日韩的巨头公司和顶级研究机构分享了众多前沿信息，涵盖了等离子体电荷态演变的基础研究、超快动态等离子体诊断、光学组件和EUV光源的协同优化等多个领域。
其中，ASML Fellow Jan van School带来的ASML高数值孔径极紫外光刻机研发最新进展令人印象深刻。ASML EXE:5000型光刻机在多重曝光工艺加持下，可以支撑1.1nm制程节点，吞吐量为150WPH。而预计于2025-2026发布的EXE:5200B，则剑指220 WPH的高吞吐量和<0.8nm的制程节点。
来自ASML、POSTECH、KMLABS等机构的专家，围绕极紫外研发各方面给从业者带来了系统的入门课程。特别是POSTECH的专家Sangsul Lee带来的EUV Mask Technology课程，让参与者受益匪浅。
会议期间，众星联恒还参观了荷兰纳米光刻高级研究中心-ARCNL，通过参观和学习，生动地了解了工程技术和基础研究的完美结合，深刻地感受到了前沿科技的魅力和自己认知的局限，极大地拓展了公司在先进光源技术和应用方面的视野。
深度对话欧洲伙伴：共探技术与市场新机遇
本月，众星联恒技术与市场团队前往欧洲，对多家重要合作伙伴进行了深度拜访，进行了深入的技术和市场交流。双方就新产品开发、市场定位、用户反馈、技术探索和未来发展方向进行了详细讨论，包括对现有产品和未来需求的详细分析。此次交流不仅加深了双方的技术合作，还进一步了解了国际市场的需求和趋势，为未来的产品开发和市场拓展提供了重要参考。
参展全国电子显微学学术年会：推广创新产品
10月18日-20日，2024年全国电子显微学学术年会在东莞市成功召开。众星联恒在本次展会中推广了advascope的混合像素直接电子探测器epix，该产品在SEM中可用于EBSD和TKD等应用，在TEM中可用于4D STEM、EELS、μED等应用。此外，公司还带来了xos的基于毛细管透镜的微焦点光源，聚焦尺寸低至30微米，搭配在SEM中可实现μXRF和EDS联用，进一步提升元素检测分辨率和检测浓度下限。
参展全国残余应力学术会议：分享前沿应用
10月29-31日，第22届全国残余应力学术会议暨国际残余应力研讨会在绵阳成功举办！众星联恒技术工程师李才华在大会上做“混合像素探测器MiniPlX在高能衍射谱学中的应用”专题报告，分享MiniPIX在XRD领域的前沿探索与创新应用。公司在现场展示了MiniPIX TPX与MiniPIX TPX3样机，并现场演示光子计数型探测器在提高测量精度和效率方面的显著优势。