中国科学家突破光学衍射极限 实现26纳米光刻精度

中国科学家突破光学衍射极限 实现26纳米光刻精度

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中国科学院理化技术研究所郑美玲研究员团队联合暨南大学段宣明教授团队在光学领域取得重要突破。研究团队以780nm波长的飞秒激光（重复频率为80MHz，脉冲宽度为120fs）作为光源，成功突破光学衍射极限，在无机光刻胶HSQ（氢倍半硅氧烷）中实现了仅为激光波长三十分之一（26nm）的光刻特征尺寸。

这一突破性成果不仅制备出了具有优异耐高温和耐溶剂性能的三维（3D）无机微结构，还利用飞秒激光超衍射纳米光刻技术构筑了多种基于无机纳米结构的光子学微器件和仿生微结构。相关研究成果以“λ/30 Inorganic Features Achieved by Multi-Photon 3D Lithography”为题发表在Nature Communications，并入选了“2022中国光学十大进展”提名奖。

基于此重要科研成果，郑美玲研究员团队受邀在《激光与光电子学进展》“中国光学十大进展专栏”发表特邀综述文章“三维无机微纳结构的激光加工与应用”。文章详细归纳了连续激光和超快脉冲激光加工方式，重点阐述了飞秒激光加工技术在制备3D无机微纳结构方面的应用，并对其在微型光学器件、量子芯片、信息存储与加密、航空航天和仿生学等领域的应用前景进行了展望。