中芯国际与ASML达成合作，光刻机价格波动下如何稳住？

中芯国际与ASML达成合作，光刻机价格波动下如何稳住？

近日，中芯国际与ASML达成合作协议，大规模采购光刻机的消息引发热议。这一合作不仅体现了中芯国际在半导体制造领域的雄心，也反映了全球光刻机市场的供需变化。然而，随着光刻机市场供需变化，ASML光刻机的价格波动可能对中芯国际及其他中国科技公司带来新的挑战。中芯国际能否在这样的市场环境下稳定发展，成为业界关注的焦点。

中芯国际作为中国最大的晶圆代工厂，近年来在半导体制造领域取得了显著进展。根据中芯国际2024年第三季度财报显示，该公司实现营收156.09亿元，同比增长32.5%，净利润10.7亿元，同比增长56.4%。这些亮眼的业绩数据，展现了中芯国际在半导体制造领域的实力和增长潜力。

新加坡毕盛资产管理公司创始人王国辉在接受彭博电视台采访时，对中芯国际的未来表示乐观。他认为，中芯国际可以利用其优势在未来达到与台积电相当的市值。王国辉指出，中芯国际的优势主要体现在三个方面：首先，芯片制造目前在很大程度上是资本支出游戏，单个代工厂的成本通常高达100亿美元。中芯国际拥有所需的资金，并且还得到了中国政府的支持。其次，中国每年培养500万理工科毕业生，提供了充足的人才储备。第三，中国巨大的国内市场为中芯国际提供了规模经济效应，使其无需开拓西方市场就能实现规模经济。

光刻机是芯片制造的关键设备，而ASML是全球唯一的EUV光刻机供应商。近年来，随着全球半导体产业的复苏，光刻机市场需求持续旺盛。根据华经产业研究院发布的《2025-2031年中国光刻材料行业市场深度研究及投资策略研究报告》，境内光刻材料整体市场规模从2019年的53.7亿元增长至2023年的121.9亿元，年复合增长率达22.7%。

然而，光刻机市场的供需关系正面临挑战。ASML首席执行官克里斯托弗·富凯指出，尽管华为和中芯国际在半导体行业表现抢眼，但与Intel、台积电和三星等领先企业相比，仍存在10到15年的技术差距。这一差距在很大程度上源于美国对华实施的出口禁令，该禁令极大限制了中国企业获取先进EUV光刻机的能力。富凯强调，即便华为和中芯国际使用一流的DUV（深紫外）光刻技术，也无法与台积电等公司进行有效竞争。

面对技术差距和外部限制，中芯国际正积极寻求突破。一方面，中芯国际通过与ASML的合作，加大光刻机采购力度，以提升其制造能力。另一方面，中国在EUV光刻机技术上取得重要进展。例如，哈尔滨工业大学研发的“放电等离子体极紫外（EUV）光刻光源”项目获得科技创新成果转化大赛一等奖。虽然要实现可商用的EUV光刻机还有很长的路要走，但这些技术突破为中芯国际的未来发展提供了新的可能性。

从全球半导体产业的发展趋势来看，中芯国际面临着难得的发展机遇。国际半导体组织SEMI预测，2024年全球半导体市场有望实现15%至20%的增长，市场规模将达到6000亿美元。在人工智能、新能源汽车、物联网等新兴应用市场需求的持续增长驱动下，国产半导体企业业绩显著增长。例如，2024年中国芯片设计企业销售规模超过6460.4亿元，同比增长11.9%。国产半导体设备企业的业绩也普遍向好，北方华创2024年前三季度实现营业收入203.53亿元，同比增长39.51%；中微公司实现营业收入55.07亿元，同比增长36.27%。

中芯国际与ASML的合作是其在半导体制造领域持续发展的重要战略举措。尽管面临技术差距和外部限制，中芯国际凭借其资金实力、人才储备和市场规模等优势，有望在激烈的全球竞争中占据一席之地。随着全球半导体产业的持续复苏和中国在光刻机技术上的突破，中芯国际的未来发展前景值得期待。然而，中芯国际也需要密切关注光刻机市场的价格波动，合理规划资本支出，以应对可能的市场风险。