超声波清洗机-哪种清洗液最适合清洗半导体芯片呢？

超声波清洗机-哪种清洗液最适合清洗半导体芯片呢？

引用

CSDN

1.

https://blog.csdn.net/FangyingSonic/article/details/139325808

在选择清洗液来清洗半导体芯片时，需要综合考虑芯片表面的污染物类型、清洗要求以及清洗液的特性和兼容性。以下是几种适合清洗半导体芯片的清洗液及其特点：

半导体水基清洗剂

1. 组成：主要由表面活性剂和其他添加剂组成，通常是中性的。
2. 特点：对铜、铝等敏感金属和特种功能材料有良好的兼容性，清洗效果好，成本较低，无毒无腐蚀性，且易于后续废水处理。
3. 应用：适用于半导体封装行业，特别是需要保护敏感金属和功能材料的清洗过程。

有机溶剂类清洗液

1. 组成：如醇类、酮类、醚类等。
2. 特点：具有较强的溶解能力，能快速去除器件表面的有机污渍和油脂，但对无机盐类污渍的溶解能力较弱。
3. 注意事项：使用时需注意其挥发性和易燃性，并确保与芯片材料兼容。

碱性清洗液

1. 组成：如氢氧化钠(NaOH)、氨水等。
2. 特点：可用于去除有机物和酸性污渍，但对一些特殊材料（如铝）存在腐蚀风险。
3. 应用：适用于去除半导体表面的有机物和酸性污染物，但需要根据芯片材料谨慎选择。

混合清洗液

1. 组成：结合有机溶剂与酸性或碱性溶液的混合物。
2. 特点：具有比单一清洗液更广泛的应用范围，能同时处理有机污染物和无机盐类污渍。
3. 注意事项：需要根据具体污染物类型和清洗要求选择合适的混合比例。

SC-1(APM)清洗液

1. 组成：由质量分数为27%的氨水(NH4OH)、30%的氧化剂双氧水(H2O2)和去离子水(H2O)以1：1：5的比例配制而成。
2. 特点：通过化学刻蚀方法去除晶圆表面的污染物，特别适用于去除氧化物和金属离子。
3. 应用：常用于湿法清洗，适用于多种半导体晶圆杂质的去除。

总结

对于一般的半导体芯片清洗，半导体水基清洗剂因其良好的兼容性和环保性成为首选。对于有机污染物，有机溶剂类清洗液具有快速溶解能力，但需注意其安全性和兼容性。碱性清洗液适用于去除酸性污渍和有机物，但需谨慎选择以避免腐蚀风险。混合清洗液和SC-1(APM)清洗液则提供了更广泛的清洗能力，适用于特定污染物和复杂清洗要求。

在选择清洗液时，建议根据具体的芯片类型、污染物类型和清洗要求，结合清洗液的特性和兼容性进行综合考虑，以选择最适合的清洗液。