问小白 wenxiaobai
资讯
历史
科技
环境与自然
成长
游戏
财经
文学与艺术
美食
健康
家居
文化
情感
汽车
三农
军事
旅行
运动
教育
生活
星座命理

异质结类型的介绍

创作时间:
作者:
@小白创作中心

异质结类型的介绍

引用
1
来源
1.
https://m.elecfans.com/article/6365688.html

异质结是光催化领域中一种重要的结构设计,通过在空间上分离光生电子-空穴对,可以显著提高光催化剂的性能。本文详细介绍了不同类型的异质结,包括传统的I型、II型和III型异质结,以及p-n异质结、表面异质结和Z型异质结。这些异质结在光催化中的作用机制和优缺点,以及具体的实例和参考文献。

传统异质结类型

为了有效分离半导体中光生成的电子-空穴对,人们提出了各种策略,例如通过掺杂、金属负载、或引入异质结。在这些策略中,光催化剂中的异质结工程因其在空间上分离电子-空穴对的可行性和有效性,已被证明是制备先进光催化剂的最有前途的方法之一。

I型异质结

对于I型异质结光催化剂,半导体A的导带(CB)和价带(VB)分别高于和低于半导体B的相应带。由于电子和空穴都聚集在同一半导体上,I型异质结光催化剂的电子-空穴对无法有效分离。此外,氧化还原反应发生在氧化还原电位较低的半导体上,从而大大降低了异质结光催化剂的氧化还原能力。

II型异质结

对于II型异质结光催化剂,半导体A的CB和VB位置高于半导体B的相应位置。因此,在光照射下,光生电子将转移到半导体B,而光生空穴将迁移到半导体A,从而导致电子-空穴对的空间分离。与I型异质结类似,II型异质结光催化剂的氧化还原能力也会降低,因为还原反应和氧化反应分别发生在还原电位较低的半导体B和氧化电位较低的半导体A上。

III型异质结

III型异质结光催化剂的结构与II型异质结光催化剂相似,只是交错间隙变得非常大,以至于带隙无法重叠。因此,III型异质结无法实现两种半导体之间的电子-空穴迁移和分离,不适合用于增强电子-空穴对的分离。

在上述传统异质结中,II型异质结显然是用于提高光催化活性最有效的传统异质结,因为它具有适合电子-空穴对空间分离的结构。常见II型异质结:TiO2/g-C3N4、BiVO4/WO3、g-C3N4-WO3等,以提高光催化活性。一般来说,II型异质结光催化剂具有良好的电子-空穴分离效率、较宽的光吸收范围和较快的传质速度。

p-n异质结

p-n异质结光催化剂的概念就是通过提供额外的电场,加速电子-空穴在异质结上的迁移,从而提高光催化性能。在光照射之前,p-n界面附近n型半导体上的电子往往会扩散到p型半导体中,留下带正电的物质。同时,p-n界面附近的p型半导体上的空穴会扩散到n型半导体中,留下带负电的物质。电子-空穴扩散将持续到系统达到费米级平衡为止。因此,靠近p-n界面的区域会带电,形成一个"带电"空间或所谓的内部电场。当p型和n型半导体受到能量等于或高于其带隙值的入射光照射时,p型和n型半导体都会被激发,产生电子-空穴对。在内部电场的影响下,p型半导体和n型半导体中光生成的电子和空穴会分别迁移到n型半导体的CB和p型半导体的VB,从而导致电子-空穴对的空间分离。值得注意的是,这种电子-空穴分离过程在热力学上也是可行的,因为在p-n异质结光催化剂中,p型半导体的CB和VB位置通常高于n型半导体。


图1. NiS/CdS p–n异质结示意图(来源:Phys. Chem. Chem. Phys. 2013, 15, 12088)

表面异质结

表面异质结是在单个半导体晶面上观察到的独特的电子-空穴分离现象。众所周知,单个半导体的不同晶面可能具有不同的带状结构、由于异质结是由两种具有不同带状结构的半导体材料组合而成,因此有可能在单个半导体的两个晶面之间形成异质结,即表面异质结。

Z型异质结

在光照射下,PS II的VB上的电子首先被激发到CB上,在VB上留下空穴。然后,PS II上的光生电子迁移到PS I的VB上,并进一步被激发到PS I的CB上。因此,光生空穴和电子分别积聚在氧化电位较高的PS II和还原电位较高的PS I中,从而实现了电子-空穴的空间分离和氧化还原电位的优化。


图2. Z型异质结示意图(来源:Phys. Chem. Chem. Phys. 2013, 15, 16883)

© 2023 北京元石科技有限公司 ◎ 京公网安备 11010802042949号