氧化铪HfO₂的基本概念，应用范围，制备方法

氧化铪HfO₂的基本概念，应用范围，制备方法

引用

网易

1.

https://m.163.com/dy/article/JORQ0C840556BB8R.html

氧化铪是一种具有重要应用价值的无机化合物，以下是关于它的详细介绍：

基本信息

• 化学式：HfO₂
• 英文名：Hafnium (IV) oxide 或 Hafnium dioxide
• 分子量：210.49

理化性质

• 外观：通常为白色或淡黄色粉末，在高温下可形成单斜晶系、四方晶系或立方晶系的晶体结构。
• 熔点：约 2758℃，熔点较高，这使得它在高温环境下具有较好的稳定性。
• 沸点：约 4600℃，高沸点使其能在许多高温工艺中保持稳定。
• 密度：约 9.68g/cm³，密度相对较大。
• 溶解性：不溶于水和一般的有机溶剂，也不溶于稀酸和碱溶液，但能溶于浓的氢氟酸和浓硫酸等强酸中。

主要用途

电子工业

• 作为高介电常数材料：在半导体制造中，随着芯片尺寸不断缩小，传统的二氧化硅绝缘材料已难以满足需求。氧化铪具有较高的介电常数，可用于替代二氧化硅作为金属 - 氧化物 - 半导体场效应晶体管（MOSFET）中的栅极绝缘层材料，能够有效减少漏电流，提高晶体管的性能和集成度。
• 用于制作薄膜材料：通过物理气相沉积或化学气相沉积等技术，可将氧化铪制成高质量的薄膜，用于集成电路中的绝缘层、扩散阻挡层等，有助于提高芯片的可靠性和稳定性。

光学领域

• 光学镀膜：由于氧化铪具有合适的折射率和良好的光学透明性，常被用于光学镀膜领域，可作为增透膜、反射膜、滤光片等的重要组成材料，能够提高光学元件的光学性能，如减少光反射、提高光透过率等。
• 激光材料：在一些激光系统中，氧化铪可作为掺杂基质材料，与其他稀土离子等掺杂剂结合，用于制备高性能的激光晶体或玻璃，实现激光的产生和放大。

其他应用

• 陶瓷材料：添加氧化铪可以改善陶瓷的性能，如提高陶瓷的硬度、韧性和耐高温性能等，使其广泛应用于刀具、磨具、耐火材料等领域。
• 催化剂：氧化铪及其复合物可作为催化剂或催化剂载体，在一些化学反应中发挥重要作用，如在石油化工中的加氢反应、裂解反应等过程中，能够提高反应的活性和选择性。

制备方法

• 化学沉淀法：通常以铪的盐溶液（如四氯化铪）为原料，与沉淀剂（如氨水、氢氧化钠等）反应，生成氢氧化铪沉淀，然后经过过滤、洗涤、干燥和煅烧等工艺，得到氧化铪产品。
• 溶胶 - 凝胶法：利用铪的有机或无机化合物在有机溶剂中发生水解和缩聚反应，形成溶胶，再经过凝胶化、干燥和煅烧等过程，制备出氧化铪。该方法可以制备出高纯度、粒径均匀的氧化铪粉末或薄膜。
• 物理气相沉积法：在高温下将铪金属蒸发，然后与氧气混合，在基底表面发生化学反应，沉积形成氧化铪薄膜。这种方法常用于制备高质量的氧化铪薄膜，在电子器件制造等领域有重要应用。