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肖特基势垒二极管基础知识:肖特基结的形成原理与能带图解释

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肖特基势垒二极管基础知识:肖特基结的形成原理与能带图解释

引用
1
来源
1.
https://toshiba-semicon-storage.com/cn/semiconductor/knowledge/e-learning/basics-of-schottky-barrier-diodes/chap2/chap2-2.html

肖特基势垒二极管(SBD)是一种重要的半导体器件,广泛应用于整流、开关和高频电路中。其核心原理是基于金属与半导体之间的肖特基接触(肖特基结)。本文将从肖特基结的形成原理出发,通过能带图解释其工作原理,帮助读者理解这种重要器件的基础知识。

设金属的功函数为Φm,n型半导体的功函数为Φn。当Φm>Φn时,n型(或p型)半导体与金属接触时形成肖特基结。肖特基结用于制造肖特基势垒二极管。下图是n型半导体和金属形成的肖特基结的能带图。

当电子从较高能级移动至较低能级时,它们会从半导体的导带移动至金属的导带。因此,耗尽区仅延伸至半导体侧。与pn结的情况一样,半导体侧的费米能级与金属侧的费米能级匹配。在平衡状态下,结的扩散势垒等于金属的功函数(Φm)减去n型半导体的功函数(Φn)。

根据费米分布,自由电子分布在n型半导体上。穿过VD势垒的电子流入金属。

施加外部电压不会影响从金属到半导体的势垒,但会导致从半导体到金属的势垒因施加的电压而移动。扩散势垒的这种移动导致流过肖特基势垒二极管的电流发生变化。


图2-2:无偏肖特基结

图2-3:正向偏置的肖特基结

图2-4:反向偏置的肖特基结

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