中国光刻机行业市场概况分析：行业高度依赖进口，国产光刻机任重道远

中国光刻机行业市场概况分析：行业高度依赖进口，国产光刻机任重道远

光刻机，又称光刻对准曝光机、掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等，是光刻工艺乃至整个芯片制造过程中的核心设备。按操作简便性程度，光刻机可分为手动光刻机、半自动光刻机和全自动光刻机；按曝光方式的不同，可分为接近接触式光刻机、直写光刻机和光学投影式光刻机；按光源类型的不同，可分为紫外（UV）光刻机、深紫外（DUV）光刻机和极紫外（EUV）光刻机。

光刻机行业产业链上游为光刻机生产所需的材料、设备及组件的生产供应环节，主要包括光刻胶、电子特气、涂胶显影设备等材料及设备，以及激光器、掩膜板、掩膜台、遮光器等组件产品。产业链中游为光刻机生产制造环节，代表厂商有ASML、Canon、大族激光、芯碁微装、Nikon、上海微电子等。产业链下游为光刻机应用需求领域，主要包括芯片制作、芯片封装、功率器件制造、LED、MEMS制造等产业。

近年来，消费电子领域的需求呈现出相对低迷的态势，然而，在这样的大环境下，电动汽车、风光储以及人工智能等崭新的需求领域却异军突起，成为了半导体产业持续成长的强劲新动能。在这些新兴需求的有力推动下，全球光刻机应用需求不断增加，市场规模实现了平稳增长。数据显示，2023年，全球光刻机市场规模已增长至271.3亿美元，2024年有望进一步增至315亿美元。

从全球光刻机产品销量结构占比情况来看，目前全球光刻机行业销售仍以中低端产品（KrF、i-Line）为主，占比分别为37.9%和33.6%；其次分别为ArFi、ArF dry、EUV，占比分别为15.4%、5.8%及7.3%。这表明不同类型光刻机在市场中的需求存在差异。值得注意的是，近年来，随着半导体产业发展，EUV已逐渐成为全球光刻机的重要发展方向之一，将成为未来全球光刻机行业发展的主要推力。

光刻机是芯片制造的关键设备之一。近几年来，随着半导体产业的加速崛起，我国光刻机应用需求迅速激增。同时，我国政府正在加快努力推动半导体产业发展，光刻机是中央政策指明要重点突破发展卡脖子技术及装备，因此，国内光刻机行业得到了资金支持、税收优惠等一系列国家政策倾斜，持续助力了国产光刻机生产能力提升，推动了国内光刻机市场规模上涨。据统计，2023年，我国光刻机产量达124台，全国光刻机市场规模已突破至160.87亿元。

我国光刻机行业产品供应严重依赖ASML光刻机进口。但由于ASML必须获得荷兰政府的出口许可证才能出售其先进的DUV工具，因此，实际上我国实体难以获得这些机器。近年来，在国家政策支持下，国内企业加速研发突破光刻机制造技术，目前国产光刻机在90nm及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的600系列光刻机已实现90nm工艺的量产，并正在进行28nm浸没式光刻机的研发工作。此外，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，也披露了一台氟化氩光刻机，其分辨率≤65nm、套刻≤8nm，有望用于28nm芯片产线中的部分工艺。但整体来说，目前我国光刻机行业国产化率仅为2.5%，整机技术仍与海外存在差距较大。数据显示，2023年我国进口光刻机数量高达225台，进口金额高达87.54亿美元，进口金额创下历史新高，且预计在未来3-5年内，我国光刻机仍将主要依赖于进口。