电子迁移率表示什么
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电子迁移率表示什么
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电子迁移率是半导体材料中的一个重要参数,它表示在单位电场强度下,载流子(电子或空穴)的平均漂移速度。迁移率的大小直接影响半导体材料的电导率和晶体管的工作频率。
迁移率与电子运动速度的关系可以表示为:电子运动速度等于迁移率乘以电场强度。这意味着在相同的电场强度下,载流子迁移率越大,运动得越快;迁移率小,运动得慢。在同一种半导体材料中,不同类型的载流子(电子和空穴)具有不同的迁移率,通常电子的迁移率高于空穴。例如,在室温下的低掺杂硅材料中,电子的迁移率约为1350 cm²/(V·s),而空穴的迁移率仅为480 cm²/(V·s)。
迁移率对半导体器件的性能有重要影响:
与载流子浓度一起决定半导体材料的电导率(电阻率的倒数)。迁移率越大,电阻率越小,通过相同电流时,功耗越小,电流承载能力越大。由于电子的迁移率一般高于空穴的迁移率,因此,功率型MOSFET通常采用电子作为载流子的n沟道结构,而不采用空穴作为载流子的p沟道结构。
影响器件的工作频率。在双极晶体管中,频率响应特性最主要的限制是少数载流子渡越基区的时间。迁移率越大,需要的渡越时间越短,晶体管的截止频率与基区材料的载流子迁移率成正比。因此,提高载流子迁移率可以降低功耗,提高器件的电流承载能力,同时提高晶体管的开关转换速度。
一般来说,P型半导体的迁移率是N型半导体的1/3到1/2。
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