东材科技牵手韩国Chemax，高端光刻胶国产化迎来新突破

东材科技牵手韩国Chemax，高端光刻胶国产化迎来新突破

近日，东材科技与韩国Chemax公司达成重要合作，共同聚焦高端光刻胶所需的高端树脂和单体纯化技术。这一合作旨在解决国内半导体级光刻胶国产化的关键痛点，为我国光刻胶产业的自主发展注入新的动力。

光刻胶是半导体制造过程中的核心材料，其性能直接影响芯片的制造精度和良率。在光刻胶产业链中，从粗单体到单体、树脂，再到最终的配胶，每个环节都至关重要。其中，树脂作为最核心的组分，其物理和化学特性直接决定了光刻胶的性能。然而，树脂的制造工艺难度极高，尤其是高端树脂的纯化技术，一直是制约我国光刻胶产业发展的瓶颈。

目前，我国在光刻胶部分原材料的生产上已取得一定进展，如绝大多数粗单体和部分纯化单体已实现量产，但在高端树脂制造领域仍是一片空白。据统计，国内仅能满足8-10%的高端单体纯化需求，高端树脂纯化技术更是亟待突破。这一现状不仅限制了我国光刻胶产业的整体发展，也对半导体产业链的安全构成威胁。

韩国Chemax公司在光刻胶单体纯化领域拥有国际领先的制造工艺，并具备树脂、配胶等高端产品的制造技术储备。其高端单体产品已成功帮助韩国实现Arf、Krf等高端光刻胶的国产化，并通过了韩国海力士、三星等巨头厂商的严格验证。此次与东材科技的合作，Chemax将充分发挥其在高端纯化工艺方面的优势，结合东材科技的合成技术和资本实力，共同推进高端光刻胶原材料的国产化。

为加速光刻胶国产化进程，东材科技已与韩国Chemax、种亿化学共同投资设立成都东凯芯半导体材料公司。该公司重点开展高端光刻胶所需单体、光酸等关键原材料的合成和纯化业务。目前，相关生产设备已完成安装调试，中试产品已实现小批量销售，光酸材料的研发工作也在有序推进。

随着全球对集成电路需求的持续增长，光刻胶市场呈现出广阔的前景。预计到2025年，光刻胶行业将继续保持高速增长态势。此次东材科技与Chemax的合作，不仅有助于填补国内高端树脂制造的空白，还将加速光刻胶国产化进程，为我国半导体产业的自主可控提供有力支撑。

总体来看，东材科技与韩国Chemax公司的合作，是破解我国高端光刻胶制造难题的重要尝试。通过引进国际领先技术，结合本土企业的产业化优势，这一合作有望为我国光刻胶产业的自主发展开辟新的路径。随着双方合作的不断深入，我们有理由期待，国产高端光刻胶将在不久的将来实现从“追赶者”到“领跑者”的转变。