半导体洁净室的净化标准是多少？

半导体洁净室的净化标准是多少？

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半导体制造过程对环境洁净度的要求极为严苛，任何微小的尘埃颗粒都可能影响芯片的良率和性能。本文将为您详细介绍半导体洁净室的净化标准，特别是ISO 14644标准的具体内容。

半导体洁净室（快装式洁净室）的标准一般遵循国际标准ISO 14644。这些标准涉及空气洁净室的设计、操作和监测，以及颗粒物浓度的允许值等内容。ISO 14644标准将空气中的颗粒物浓度分为不同等级，根据洁净度的要求对空气进行分类和评估。在半导体行业，常见的洁净室等级包括ISO级别5到ISO级别8，某些要求较高的工序如芯片制造的工序，要求在1-5级别，具体选用哪一个级别取决于具体的制程要求和产品标准。

以下是ISO 14644-1中定义的几个常见的洁净度等级：

• ISO 5级：大于或等于0.5微米（μm）的粒子浓度容许值为3520个/每立方米（PC/m³）。大于或等于0.1微米（μm）的粒子浓度容许值为10万个/每立方米（PC/m³）。
• ISO 6级：大于或等于0.5微米（μm）的粒子浓度容许值为35200个/每立方米（PC/m³）。大于或等于0.1微米（μm）的粒子浓度容许值为100万个/每立方米（PC/m³）。
• ISO 7级：大于或等于0.5微米（μm）的粒子浓度容许值为352000个/每立方米（PC/m³）。
• ISO 8级：大于或等于0.5微米（μm）的粒子浓度容许值为3520000个/每立方米（PC/m³）。

具体的洁净度等级要根据半导体生产和加工工艺的要求来确定。