光刻机行业产业链竞争格局市场空间及相关公司分析报告-25页

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光刻机是集成电路制造的关键设备，其技术发展和市场竞争格局备受关注。本文将为您详细介绍光刻工艺的重要性、光刻机的技术发展历程、市场竞争格局以及产业链上下游的情况。同时，还将列举多家与光刻机相关的公司及其在产业链中的位置。

光刻工艺是集成电路制造的关键环节，耗时约占一半，成本约占三分之一。光刻机有多种类型，技术发展历经多个阶段，从UV光刻机到High - NA EUV光刻机，分辨率不断提高。

市场空间方面，高端EUV + ArFi光刻机市场规模大且收入高，EUV光刻市场高速成长。竞争格局呈现“一超两强”，ASML在高端市场占主导。

国内光刻机依赖进口，面临断供风险，需实现国产替代。我国光刻机研制起步不晚，但产业化滞后，如今科研院所等共同发力，上海微电子取得一定成果。

产业链方面，上游零部件市场空间大且技术关键，存在断供隐忧，下游半导体行业发展促使晶圆厂扩产。

多家上市公司与光刻机相关，包括福晶科技、奥普光电等。福晶科技的晶体元器件应用于光刻机，奥普光电的光刻机工件台项目已通过验收。

光刻技术未来将向更短光源波长冲刺，增大物镜直径。芯片性能升级使光刻强度上升，2024年设备市场有望回暖，光刻占比将超25%。