力争2027年量产2nm！日本接收首台EUV光刻机：重71吨、四阶段安装

力争2027年量产2nm！日本接收首台EUV光刻机：重71吨、四阶段安装

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日本初创晶圆代工厂Rapidus近日成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。

Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由于EUV系统体积庞大，完整设备重达71吨，将分四阶段进行安装，预计本月底在晶圆厂内完成。

Rapidus首席执行官小池淳义在新千岁机场举行的典礼上表示，公司将从北海道和日本向全球提供最先进半导体。

Rapidus计划2025年春季完成2nm芯片原型开发，并在2027年实现量产，相比之下台积电则计划2025年开始量产2nm芯片。

ASML是目前全球唯一的EUV光刻机供应商，每台设备成本约1.8亿美元以上，去年全球仅交货了42台。

资料显示，日本曾在1980年代占据全球超过50%的半导体市场份额，但到2000年代已退出先进逻辑制程芯片的竞争。

Rapidus的成立旨在重振日本先进芯片的生产能力，降低对进口芯片的依赖，日本政府目标到2030年实现国内半导体销售额达15万亿日元，达到2020年的三倍。