国产光刻机之光学器件龙头公司哪家实力更强？
国产光刻机之光学器件龙头公司哪家实力更强？
光刻机在芯片制造中占据着举足轻重的地位，被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”。芯片制造是一个高度复杂的过程，而光刻工艺则是其中最为关键的一步。在这个过程中，光刻机利用光学技术将电路图案精确地投射到硅片上，从而实现芯片的制造。
光学器件作为光刻机的核心部件，其重要作用不言而喻。首先，光学器件决定了光刻机的分辨率。分辨率越高，能够制造的芯片尺寸就越小，性能也就越好。例如，ASML的光刻机采用了德国蔡司公司生产的世界上最为平滑的反射镜，能够实现极高的分辨率，从而为制造高端芯片提供了保障。
其次，光学器件影响着光刻机的光强和稳定性。在光刻机的工作过程中，需要产生高强度的光源，并通过光学器件进行反射、整形和过滤等操作。如果光学器件的质量不过关，就会导致光强不足、稳定性差，从而影响芯片的制造质量。
此外，光学器件还对光刻机的成本和可靠性有着重要影响。高质量的光学器件通常价格昂贵，但其能够提高光刻机的生产效率和良品率，从而降低芯片的制造成本。同时，可靠的光学器件能够减少光刻机的故障率，提高设备的稳定性和可靠性。
综上所述，光刻机光学器件在芯片制造中具有至关重要的作用。它不仅决定了光刻机的性能和分辨率，还影响着芯片的制造成本和可靠性。因此，研发和生产高质量的光刻机光学器件，对于推动我国芯片产业的发展具有重要意义。
各公司实力分析
炬光科技
炬光科技的光场匀化器在国内光刻机研发中发挥了重要作用，成功应用于国内主要项目和样机中。其独特的技术优势有效解决了传统光刻机在光场匀化方面的技术难题，显著提高了光刻机的分辨率和成像质量。例如，在为中科院、上海微电子、美国科磊等行业知名半导体集成电路设备科研和生产机构提供相关产品的过程中，展现出了卓越的性能。
上游元器件中光刻用光学元件需求强劲，2023 年仍保持快速增长趋势。公司不断加大研发投入，引进高端人才，推动技术创新，以满足市场对高性能光刻机的需求。同时，积极与国内知名高校和科研机构合作，共同推动光刻机技术的研发和应用。据统计，负责泛半导体制程业务的 LIMO Display 上半年收入 599.5 万，虽看似不大，但已远超部分同类企业，且光场匀化器每件售价高达 20 余万，技术壁垒高、技术难度大、单位价值高。
苏大维格
苏大维格虽因光刻机信息披露不准确受罚，但不可忽视其在微纳光学领域的技术优势。公司向上海微电子提供定位光栅部件等产品，在光刻机领域逐渐崭露头角。例如，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，在科研教育领域具有一定知名度和市场占有率，部分应用领域虽与国际先进水平有差距，但仍在持续研发投入。
2024 年半年报业绩增长显著，新型 3D 印材和公共安全防伪材料事业群销售规模增长约 1.57 亿元，同比增长约 31.70%。柔性透明导电材料业务海外拓展效果显著，收入增加约 3075.20 万元，同比增长约 27.08%。纳米纹理材料业务收入增加约 2794.04 万元，同比增长约 656.68%。公司构建了微纳光学研发与生产制造的技术平台体系，为未来发展奠定了坚实基础。
腾景科技
腾景科技的精密光学元件在细分领域市场影响力高，产品广泛应用于光通信、光纤激光、工业激光等领域，与光刻机产业链紧密相关。公司的合分束器是光刻机光学系统核心部件，2022 年报显示，公司光刻机多波段合分束器已完成产品开发，成功进入半导体微电子设备厂供应链。
作为低位的光刻机光学元件龙头，光学元件在光刻机成本占比高。目前量产在即，有望在未来市场中占据重要地位。随着光刻机市场的不断发展，腾景科技凭借其技术优势和产品竞争力，将迎来新的发展机遇。
京华激光
京华激光在包装印刷领域实力强，尤其在烟包盒皮细分市场中占有率居同行业前列。控股的美国菲涅尔制版科技公司具有较强的微结构光学技术研发实力，与光刻机技术有一定的交叉。这为公司在光刻机光学器件领域的发展提供了技术支持和潜在机会。
晶方科技
晶方科技通过收购 Anteryon 公司布局光刻机相关业务，成为ASML核心供应商之一。Anteryon 公司为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司，部分产品运用于光刻机部件，为晶方科技提供了强大的技术支持。
2024 年一季度业绩反转，毛利率和净利率显著回升。受益于无人驾驶、CMOS 图像传感器市场增长等因素，公司销售半导体产品实际收到的现金净额同比大幅增长了 126%。同时，公司存货增长至 1.29 亿元，同比大幅增长了 46%，这表明公司未来净利润增长具有较大潜力。
龙头之争，未来可期
在光刻机光学器件领域，各公司竞争激烈，挑战与机遇并存。
目前，国产光刻机光学器件企业面临着技术瓶颈、国际竞争等挑战。一方面，与国际先进水平相比，我国在光刻机光学器件的分辨率、稳定性等方面仍有一定差距。例如，ASML的光刻机采用的高端光学器件在性能上远超国内产品，这使得国内企业在高端市场的竞争力相对较弱。另一方面，国际市场的竞争也给国内企业带来了压力。荷兰等国家在光刻机技术方面的出口限制，进一步加剧了国内企业获取先进技术和设备的难度。
然而，随着技术的不断发展和政策的支持，国产光刻机光学器件企业未来潜力巨大。在技术发展方面，各公司不断加大研发投入，积极引进高端人才，推动技术创新。例如，炬光科技持续投入光刻用光学元件的研发，有望在未来继续保持快速增长趋势；苏大维格构建了微纳光学研发与生产制造的技术平台体系，为未来发展奠定了坚实基础；腾景科技作为低位的光刻机光学元件龙头，量产在即，有望在未来市场中占据重要地位。
政策支持也为国产光刻机光学器件企业带来了机遇。中国政府对半导体产业的高度重视，出台了一系列扶持政策，包括财税优惠、研发补贴等。这些政策有助于国内企业加大研发投入，提升技术水平，增强市场竞争力。
总之，虽然国产光刻机光学器件企业面临着诸多挑战，但随着技术的不断发展和政策的支持，未来潜力巨大。各公司应抓住机遇，加大研发投入，提升技术水平，共同推动我国光刻机光学器件产业的发展。