去屑界的四大金刚
去屑界的四大金刚
头屑是困扰许多人的问题,它不仅影响外观,还可能带来瘙痒等不适。市面上的去屑产品琳琅满目,但你是否了解这些产品中的有效成分?本文将为你详细介绍头屑的成因以及四种常见的去屑成分,帮助你更好地选择适合自己的去屑产品。
头屑是什么
头屑是头皮脱落的角质细胞。正常情况,角质细胞脱落很少很慢,不会被明显地看到。但在某种刺激下,不成熟的角质细胞大量产生、结块脱落,形成纷纷扬扬的“雪花”现象。
我国有大约60%的人受困于不同程度的头屑烦恼,其中15%的人问题严重。
头屑产生的原因
A. 异物侵害
马拉色菌是一类嗜脂性单细胞酵母菌,将头皮中的油脂作为食物,易于生长在皮脂丰富的皮肤上。当马拉色菌在头皮上的大量繁殖,引起头皮角质层的过度增生,从而促使角质层细胞以白色或灰色鳞屑的形式异常脱落,即为头皮屑。
除了微生物的侵害,生活环境中可能还会有其它因素的异物侵害,比如使用劣质的洗护发产品,污染的大气等等,都会导致皮肤炎症,引起角质增生。
B. 皮肤功能受损
皮肤是人体的最大屏障,抵御外界的物理化学损伤。当头皮屏障功能受损,自我调节能力降低,外界化学刺激物和微生物便可轻易进入头皮内部,引起炎症反应,导致角质不完全,引起脱屑。
C. 内在因素
头屑产生的原因包括其他一些内部因素,自身营养不良,饮食油腻,精神紧张,压力过大,激素不均衡,间接导致皮质分离过多,为马拉色菌提供的丰富的食物。
总之,头屑的产生是一个复杂的问题,学术界至今也没有完全搞清楚,需要进一步研究和证实。了解不同的头屑产生机制,通过复配不同的去屑成分,为去屑方案提供了可靠的依据。
日化常用去屑止痒剂
吡硫鎓锌(ZPT)
吡硫鎓锌(ZINC PYRITHIONE),化学名称:双(2-硫代-1-氧化吡啶)锌分子式C10H8N2O2S2Zn
吡硫鎓锌对细菌、真菌和病毒有强力杀灭和抑制繁殖的效果,能抗皮脂溢出,常规量对人体无毒无害,长期使用无副作用,它的显著的去头皮屑效果和良好的完全性使其广泛地用于配制去屑止痒香波。宝洁公司在其旗下品牌“海飞丝”去屑香波中使用该成分已经有超过2O年的历史,其他品牌沙宣、清扬、吕等也普遍采用了吡硫鎓锌作为去屑止痒成分。
因其极难溶于有机溶剂和水中,不宜配制透明香波;与EDTA不配伍,遇非离子表面活性剂会使其活性下降,因此在配制产品时,不能单独与EDTA和非离子表面活性剂接触;同时它的存在会对光产生散射,产品珠光效果会受到影响;而且应用于香波配方中经常会出现沉降,且遇铁离子容易变色,需加入悬浮剂和稳定剂。作为目前应用最广泛的去屑剂,无论是在安全性和功效性方面都受到了一致好评,但是吡硫鎓锌本身有一定的毒性和刺激性,存在一定的安全风险,但是,ZPT用于各种洗发水的添加量在1%~2%之间对人体没有危害。因此,在符合法规要求的前提下使用去屑剂是安全的。
氯咪巴唑(CLM)
氯咪巴唑(CLIMBAZOLE),化学名称:3-二甲基-2-丁酮,化学式:C15H17O2N2Cl
俗称甘宝素,具有独特的抗真菌能力,对引起头屑的卵状芽孢菌或卵状糠疹菌属以及白色念珠菌、发癣菌有抑制作用。
其机理是通过杀菌和抑菌来消除产生头屑的外部因素,以达到去屑止痒的效果。甘宝素不吸湿,对光和热稳定,易溶于有机溶剂,水中溶解度有限(5.5mg/1000ml),可溶于表活体系,有一定离子特性,会对体系粘度产生影响;在酸性和中性溶液中可以稳定存在,碱性(pH>9.2)和高温(>50℃)会发生部分水解。它的去屑止痒效果与ZPT和Octopirox相比差距较大,近几年用量在下滑。化妆品中允许使用的最大限量为0.5%。施华蔻去屑产品中得到应用,而清扬将吡硫鎓锌和氯咪巴唑复配使用,以达到协同增效的作用。
吡罗克酮乙醇胺盐(OCT)
吡罗克酮乙醇胺盐(PIROCTONE OLAMINE),化学名称:1-羟基-4-甲基-6-(2,4,4-三甲苯基)吡啶酮乙醇胺复合盐(1:1),化学式:C16H30N2O3
是一种新型去屑止痒产品,在国外已经应用了30多年,目前为止没有有关细胞毒性的报道。化妆品法规淋洗类产品使用上限1.0%,其他产品使用上限0.5%,不仅能有效地杀死产生头屑的酵母菌,同时还能有效地抑制革兰氏阳性、阴性以及各种真菌和霉菌;可残留皮肤上;Octopirox溶解性能和复配性能优良,与化妆品原料混合不会发生沉淀或分层现象。
通过杀菌、抑菌、抗氧化作用和分解氧化物等方法,从根本上阻断头屑产生的外部因素,有效地根治头屑,止头痒,其刺激性低,不会引起脱发断发。因而被广泛地应用于去屑香波产品中。但Octopirox的水溶液有颜色,令产品着色,而且它的成本较高,在使用上受到了限制。欧莱雅的去屑洗发水产品中已广泛使用吡罗克酮乙醇胺盐作为去屑。
己脒定二(羟乙基磺酸)盐
己脒定二(羟乙基磺酸)盐(HEXAMIDINE DIISETHIONATE),化学名称:二羟乙基磺酸己氧苯脒,化学式:C20H26N4O2·2(HOC2H4SO3H)
属于一类较新的杀菌成分,对革兰氏阳性菌、革兰氏阴性菌以及霉菌、酵母等真菌有很强活性,特别对引起头屑的卵状糠秕孢子菌,引起粉刺的痤疮丙酸杆菌有很强的抑制和灭菌效果,所以不仅仅用于去屑,也可用于祛痘产品中。因为其阳离子性对头发产生的吸附作用,更有利于其去屑作用的加强和持久发挥, 这是其他去屑剂不具备的特性。
一般的去屑香波添加0.02% ~0.05%即可达到明显的去屑效果。除了其出色的去屑性能外,相对于其他去屑剂,使用方便简单:水溶、不沉降和无需悬浮;不会引起变色;非常安全和温和,对眼睛都无刺激,也可存留于皮肤和头皮上。拉芳已将其用于去屑产品。
去屑剂的发展趋势
洗发水中安全、稳定、高效和低刺激的去屑原料一直是追求的方向。随着近年来环保、低碳、绿色和天然趋势的流行,植物去屑产品也是研究的热点,并越来越受到人们的关注和喜爱。目前已经有很多植物成分被应用到了去屑化妆品中,一些天然植物提取物,如胡桃油、防风、山茶、木瓜和积雪草等,富含多种活性成分,具有抗菌消炎、提供营养和改善毛细血管血液循环等功效,且刺激性低,作用温和,对去屑、防脱和改善发质具有一定的效果,具有良好的发展前景。