集成电路布图设计专有权制度介绍

集成电路布图设计专有权制度介绍

01 引 言

自国务院于2014年颁发《国家集成电路产业发展推进纲要》以来，中国申请集成电路布图设计登记的数量呈快速增长态势。“十三五”以来，集成电路布图设计申请年均增长率达57.1%[1]。2023年全年，中国集成电路布图设计登记发证1.1万件，截至2023年底，累计发证7.2万件[2]。

在芯片产业备受社会关注的背景下，越来越多的企业加大了对芯片研发的投入，对集成电路布图设计的申请和保护需求也日益提升。然而，笔者在实务中发现，大部分企业对集成电路布图设计制度的特殊性缺乏了解，对集成电路布图设计专有权与专利权在申请和保护上的差异亦不甚熟悉。因此，本文通过以企业知识产权从业者相对更加熟知的专利权制度为参照，对中国的集成电路布图设计制度进行阐述，以供各企业知识产权从业者参考。

02 集成电路布图设计的申请

笔者参照对比专利的申请制度，对集成电路布图设计的申请制度进行介绍：

首先，从权利的产生过程来看，根据《集成电路布图设计保护条例》第八条规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。由此可见，

其次，从申请审查的过程来看，根据《集成电路布图设计保护条例》第十八条规定，布图设计登记申请经初步审查，未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。由此可知，

虽然《集成电路布图设计保护条例》第四条规定了受保护的布图设计应当具有独创性，但在申请登记阶段，国家知识产权局并不会对集成电路布图设计的独创性进行审查，且申请文件并不要求明确写出布图设计的独创性部分的范围。这与实用新型申请的初步审查不同，在实用新型申请的初步审查中，审查员会对实用新型的创造性进行审查。

由于国家知识产权局在申请登记阶段不会对集成电路布图设计的独创性进行审查，因此，

权利人不能在后续权利争议过程中，仅以经过登记备案为由而当然认为布图设计的整体或任何部分具有独创性。

在登记后涉及到专有权撤销或侵权程序时，会要求专有权人明确其布图设计的独创性部分，此时审查或审判机关对其主张通常应予接受，独创性判断应以此时主张的独创性部分为判断范围[3]。

另外需要说明的是，不同于专利法对发明创造采取公开换保护的制度设计，《集成电路布图设计保护条例》对布图设计的保护并不以权利人公开布图设计为条件（参见（2019）最高法知民终490 号判决书）。因此，布图设计在授权过程中不存在公开程序，故一般公众查询已授权的布图设计较为困难。

03 集成电路布图设计专有权的撤销

集成电路布图设计专有权撤销的后果与专利权被无效的后果相同，均相当于权利自始不存在。

根据《集成电路布图设计保护条例》第二十条规定，布图设计获准登记后，国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规定的，应当予以撤销，通知布图设计权利人，并予以公告。也就是说，

这一点与专利不同，专利法并未授予国务院知识产权行政部门依职权主动对已授权专利进行撤销的权力。如果要使已授权专利的权利自始不存在，需单位或者个人向国务院专利行政部门请求宣告该专利权无效，并由国务院专利行政部门进行认定。

当然，集成电路布图设计专有权的撤销也可如同专利的无效请求程序，由单位或个人向国家知识产权局专利局复审和无效审理部提出撤销意见，并由国家知识产权局经审查作出撤销程序审查决定。

关于已登记集成电路布图设计撤销的理由，可参考国家知识产权局颁布的《集成电路布图设计保护条例实施细则》第二十九条：

通过参照对应条款，可将具体撤销的理由概括为：

撤 销 理 由

1. 不符合集成电路布图设计的保护客体（保护条例第二条第（一）、（二）项）；
2. 外国人创作的布图设计未首先在中国境内投入商业利用，或者所属国未与中国签订布图设计保护协议（保护条例第三条）；
3. 布图设计不具有独创性（保护条例第四条）；
4. 布图设计的保护延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念（保护条例第五条）；
5. 布图设计自创作完成之日起15年后登记（保护条例第十二条）；
6. 布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的（保护条例第十七条）。

下面进一步对独创性的判断步骤进行介绍。

在“图像传感器CS3825C”集成电路布图设计专有权（登记号：BS.175539928）撤销程序案中，记载了目前国家知识产权局在审理布图设计撤销案件时关于独创性的判断规则。在审理实践中，独创性具体判断的方法通常包括按照以下步骤进行[3]：

第一步 为独立创作判断

通常而言，

如果已构成“现有布图设计”，那么在没有相反证据推翻的情况下，可直接认定创作者存在接触该现有布图设计的可能性。此时，在以“现有布图设计”作为对比布图设计时，仅需考虑二者是否相同或者实质相同；
如果专有权人要求保护的布图设计独创性部分与现有布图设计相同或实质相同，则认为该独创性部分不属于创作者自己的智力劳动成果；
如果要求保护的布图设计独创性部分与现有布图设计不同，则认为该独创性部分属于创作者自己的智力劳动成果。

具体地，在判断是否“独立创作”时包括两个重要条件，

如果上述两个条件均满足，即创作者存在接触对比布图设计的可能性，且二者布图设计相同，则认为本布图设计不是独立创作，不属于创作者自己的智力劳动成果。

如果上述两个条件中有一个不满足，则认为本布图设计相对于对比布图设计属于创作者自己的智力劳动成果。需要说明的是，

在判断是否存在接触可能性时，如果对比布图设计在本布图设计的申请日或首次商业利用日之前处于公众可以获得的状态，例如存在于已销售的芯片中，或是已登记公告可查询的布图设计，或公布在某个互联网页中，属于现有布图设计，则可认定创作者存在接触该布图设计的可能性。

第二步 为非常规设计判断

如果独创性部分与现有布图设计不同，该独创性部分属于创作者自己的智力劳动成果，则在其比对分析的基础上确定二者的差别。

如果上述差别对布图设计创作者和集成电路制造者而言属于公认的常规设计，则该独创性部分不具有独创性；
如果上述差别不属于公认的常规设计，则该独创性部分具有独创性。

笔者认为，在评价集成电路布图设计的独创性时，其评价步骤与评价专利创造性的“三步法”有相似之处。

首先都是要确定最接近的现有技术（设计），如果与现有技术（设计）完全相同，则直接认为不具备创造（独创）性。

但是，如果与现有技术（设计）存在区别，则在对该差别的评价上，集成电路布图设计与专利权存在区别。

由于集成电路布图设计不保护技术思想，因此，

在评价专利的创造性时，还需要先根据区别技术特征重新确定专利相对现有技术所解决的技术问题，然后从该技术问题出发，判断区别技术特征相对于本领域技术人员来说是否显而易见。

当区别技术特征为公知常识时，专利必然不具备创造性。但若该区别特征为与最接近的现有技术相关的技术手段，且该技术手段在该其他部分所起的作用与该区别特征在要求保护的发明中为解决该重新确定的技术问题所起的作用相同，则专利依旧不具备创造性。由此可见，专利对创造性的要求高于集成电路布图设计对独创性的要求。

04 集成电路布图设计专有权侵权后的救济途径

与发明、实用新型专利类似，当集成电路布图设计专有权的权利人发觉集成电路布图设计专有权受到侵犯时，存在两种救济途径。

若当事人任何一方均未就该侵权纠纷向人民法院提起诉讼，则可以向国家知识产权局设立的集成电路布图设计行政执法委员会请求处理纠纷并调解赔偿数额。或者当事人也可以直接向人民法院提起诉讼，请求法院确认侵权并确定赔偿数额。

然而，在侵权判定的过程中，集成电路布图设计专有权与专利权存在差异。

首先，关于权利保护范围的确定，两者存在差异。

如前所述，与专利不同，集成电路布图设计的保护不以权利人公开布图设计为条件。因此，

若发明、实用新型的说明书附图不清晰，则被诉侵权人可以在审理期间，以所属技术领域的技术人员不能实现技术方案为由，依据专利法第26条第3款请求专利无效，若专利成功被无效，即可避免被判决专利侵权。

其次，关于对权利的审查职能分配，两者存在差异。

审理专利侵权纠纷案件的法院无权审查专利权无效，因此在专利侵权诉讼中，被告往往向国家知识产权局另行提起宣告专利权无效的请求，此时法院可能中止民事诉讼，等待专利授权确权裁定的结果。由于这一制度的存在，专利侵权诉讼的审理周期往往较长。然而，

因此，相较于专利权的侵权诉讼，集成电路布图设计专有权的侵权诉讼使法院进一步集中了审理职权，简化了程序，缩短了审理周期。

再次，关于侵权产品的比对方式，两者存在差异。

对集成电路布图设计权利人而言，只要其主张专有权的内容在其受保护的布图设计权利边界内，则其既可选择全部具有独创性的部分作为专有权的权利基础，亦可选择其中任何具有独创性的部分作为权利基础。该“部分”不应仅是个别元件或者个别连接，而应具有某种相对独立的电子功能。

例如，在最高人民法院（2021）最高法民申3269号民事裁定中，法院将集成电路布图设计分为区域A-区域M，虽判定B区域的设计与集成电路布图设计的B区域的布图设计不同，但认定被告侵害了原告布图设计中C、D、E、H、I、M六个区域，从而被告侵犯了原告的集成电路布图设计专有权。

笔者认为，不能认为一项集成电路布图设计在没有自身独创设计的前提下，完全抄袭他人布图设计或与他人布图设计构成实质性相似，才构成对他人集成电路布图设计专有权的侵害。

这意味着，如果要使以某种布图设计为基础进行改造的集成电路不侵犯该布图设计的专有权，则需要针对所有具有独立电子功能且具有独创性的部分进行具有独创性的修改，方能避免侵害该布图设计的专有权。

然而，在对发明和实用新型进行侵权分析时，是将权利要求作为一个整体的技术方案进行分析，在侵权对比时采用全面覆盖原则，即产品或者方法应具备专利权利要求中所描述的每一项技术特征。

若在他人专利的基础上进行修改，需重新判断是否包含了权利要求中的全部技术特征。

例如，在专利的基础上增加了一个或多个技术特征，由于仍包含了权利要求的全部技术特征，则仍会面临侵权风险；若在专利基础上减少了或变更了一个或多个技术特征，则可能成功规避侵权风险。

最后，关于侵权行为的认定，两者存在差异。

根据《集成电路布图设计保护条例》第二十三条规定，对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。

然而，根据专利法第九条规定，同样的发明创造申请专利的，专利权授予最先申请的人。若他人独立地作出了同样的发明创造，且在申请人提出专利申请以前提出了专利申请，那么根据先申请原则，申请人就不能取得专利权。并且，即使在专利申请日前已经制造相同产品、使用相同方法或者已经作好制造、使用的必要准备，在专利授权后也只能在原有范围内继续制造、使用。也就是说，

05 结 语

本文以专利制度为参照，简要介绍了集成电路布图设计的申请、撤销以及保护制度。虽然集成电路布图设计专有权与专利权同属知识产权，但集成电路布图设计专有权制度与专利权制度存在区别。在对集成电路布图设计专有权进行保护时，需考虑到其非公开性、保护不延及思想等特点，避免将专利权保护制度生硬地套用在集成电路布图设计专有权的实务操作中。

参考文献

[1] 新华社新媒体.“十三五”时期我国集成电路布图设计申请年均增长57.1%.
https://baijiahao.baidu.com/s?id=1689854864902313821&wfr=spider&for=pc, 2021-01-25.

[2] 中国电子报.国家知识产权局：2023年我国集成电路布图设计登记发证1.1万件.
https://new.qq.com/rain/a/20240116A03XYA00, 2024-01-16.

[3] 国家知识产权局.【十大案件】评析“图像传感器CS3825C”集成电路布图设计专有权撤销程序案.
https://www.cnipa.gov.cn/art/2022/6/29/art_2648_176266.html, 2022-06-29.