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CIS图像传感器:从结构到工作原理的全面解析

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CIS图像传感器:从结构到工作原理的全面解析

引用
1
来源
1.
http://www.360doc.com/content/25/0327/18/71430804_1149981919.shtml

CIS(CMOS Image Sensor)图像传感器是现代成像技术的核心组件,广泛应用于智能手机、数码相机、安防监控等领域。本文将从结构到工作原理,全面解析CIS图像传感器的工作机制及其在现代电子设备中的重要应用。

什么是CIS图像传感器?

CIS(CMOS Image Sensor,互补金属氧化物半导体图像传感器)是一种广泛应用于智能手机、数码相机、安防监控和医疗影像等领域的图像传感器。与传统的CCD(电荷耦合器件)传感器相比,CIS具有低功耗、高集成度、低成本等优势,因此成为现代成像技术的主流选择。

CIS的核心功能是将光信号转换为电信号,再通过信号处理电路生成数字图像。它的主要特点包括:

  • 高集成度:可在同一芯片上集成感光单元、信号放大、模数转换等功能。
  • 低功耗:采用CMOS工艺,功耗远低于CCD。
  • 高速读取:支持逐行或随机读取,适合高速摄影和视频拍摄。

CIS的结构组成

CIS的基本结构主要包括以下几个部分:

  1. 微透镜阵列(Microlens Array)
  • 位于传感器最上层,用于聚焦光线,提高光利用效率。
  • 减少光线损失,提升传感器的灵敏度。
  1. 彩色滤镜(Color Filter Array, CFA)
  • 通常采用RGB(红、绿、蓝)拜耳阵列(Bayer Pattern),使每个像素仅感应特定颜色的光。
  • 通过插值算法(Demosaicing)还原全彩图像。
  1. 光电二极管(Photodiode, PD)
  • 核心感光元件,负责将光子转换为电子(光电效应)。
  • 一般采用PIN(P型-本征-N型)结构,提高量子效率。
  1. 像素电路(Pixel Circuit)
  • 包括复位晶体管(Reset Transistor)、源极跟随器(Source Follower)、选择晶体管(Select Transistor)、Transfer Gate、FD等。
  • 电路负责信号放大、噪声抑制和数据读取。
  1. 读出电路(Readout Circuit)
  • 将模拟信号转换为数字信号(ADC,模数转换)。
  • 可能包含相关双采样(CDS,Correlated Double Sampling)技术,降低噪声。

光电二极管的工作原理

光电二极管(Photodiode, PD)是CIS的核心感光元件,其工作原理基于光电效应:

  1. 光子吸收:当光照射到PN结时,能量足够的光子会激发价带电子跃迁至导带,形成电子-空穴对。
  2. 电荷分离:在耗尽层电场的作用下,电子向N区移动,空穴向P区移动,形成光电流。
  3. 电荷积累:在曝光期间,电子被存储在光电二极管的势阱中,电荷量与光强和曝光时间成正比。

为了提高量子效率(QE),现代CIS通常采用:

  • 背照式(BSI, Backside Illumination):光线从芯片背面入射,减少金属布线对光的遮挡。
  • 深沟槽隔离(DTI, Deep Trench Isolation):减少像素间的串扰。

Pixel(像素)的结构

CIS的每个像素(Pixel)通常采用4T(4晶体管)结构,包括:

  1. 光电二极管(PD):感光部分,负责光电转换。
  2. 复位晶体管(Reset Transistor, RST):用于清除残留电荷,初始化像素。
  3. 源极跟随器(Source Follower, SF):放大信号,提高信噪比。
  4. 选择晶体管(Select Transistor, SEL):控制像素是否被读取。
  5. 浮动扩散节点(FD):临时存储电荷,并将其转换为电压信号。
  6. TG:Transfer Gate,将PD区域的电荷传递到FD。

3T vs 4T结构:

  • 3T结构(早期设计):仅包含PD、RST、SF,噪声较大。
  • 4T结构(主流设计):增加传输晶体管(TX),减少噪声,提高灵敏度。

总结

CIS图像传感器凭借其高集成度、低功耗和优异的成像性能,已成为现代电子设备的核心组件。从结构上看,它由微透镜、滤光片、光电二极管和像素电路组成;从工作原理上看,它通过光电效应将光信号转换为电信号,再经过放大和数字化处理,最终输出高质量图像。随着背照式(BSI)、堆叠式(Stacked CIS)等技术的发展,CIS的性能仍在不断提升,未来将在自动驾驶、AR/VR、医学影像等领域发挥更大作用。

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