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增强型MOS管的工作原理:【图文讲解】

创作时间:
作者:
@小白创作中心

增强型MOS管的工作原理:【图文讲解】

引用
CSDN
1.
https://blog.csdn.net/weixin_66299220/article/details/143571284

尽管MOS管和三极管都来自于PN结。但其工作原理有很大的不同,所以有必要对MOS管的工作原理做进一步介绍。这里我们以增强型NMOS管为例。

增强型:VGS=0时管子是呈截止状态,加上正确的VGS后,多数载流子被吸引到栅极,从而“增强”了该区域的载流子,形成导电沟道。即:增强型MOS管必须使得VGS>VGS (th) (栅极阈值电压)能导通。

耗尽型:当VGS=0时即形成沟道,加上正确的VGS时,能使多数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止。即:耗尽型MOS管的VGS (栅极电压)可以用正、零负电压控制导通

1:增强型MOS管结构

  1. 以低掺杂的P型硅片为衬底
  2. 利用扩散工艺制作成两个高掺杂的N+区,并引出两个电极,分别为源极s和漏极d
  3. 在半导体上制作一层SiO2绝缘层,在SiO2上制作一层金属铝,引出电极,作为栅极g
  4. 通常将源极与衬底连接在一起,这样衬底与栅极之间就形成电容,当栅极与源极之间电压变化时,将改变衬底靠近绝缘层出的感应电荷的多少,从而控制漏极电流大小

2:NMOS PN结内部电场

PN结的特性可知,在稳态的情况下,在PN结内形成内部电场,方向由N型,指向P型,如下图所示(紫色部分为内部电场):

3:导电沟道的形成

如果把源极(S)和基底(P型)接地,此时PN结的内部电场依然维持。此时如果在栅极(G)和源极(S)之间加正电压,由于在栅极(G)和基底(P型)之间的二氧化硅绝缘层很薄,因此相当于在在栅极(G)和基底(P型)形成的电容上加正电压,在基底(P型)靠近绝缘层一侧的表面则感应出负电荷来。如下图所示:

当Vgs逐渐加大,在基底(P型)靠近绝缘层一侧的表面则感应出更多的负电荷-出来。当等于某一临界值Vt时,就在基底(P型)靠近绝缘层一侧的表面形成一个N型层(又称反型层,相对于基底P型),从而把源极(S)和漏极(D)连接起来。如下图所示:

我们把这个反型层叫做导电沟道。把开始形成导电沟道所需要的栅源电压叫做开启电压,并用Vgs表示。随着Vgs的继续增加,导电沟道也相应的加宽,因为导电沟道是N型的,所以把这种MOS管称为N沟道MOS管。其符号如下:

4:工作原理

当Uds=0,且Ugs=0时,源极与漏极之间只是背向的PN结,不存在导电沟道,此时即使Uds>0,也不厚有漏极电流

当Uds=0,且Ugs>0,由于有SiO2存在,栅极电流为零。由于Ugs>0,所以栅极金属层将聚集正电荷,从而排斥P型衬底栅极一侧的空穴,且吸引自由电子靠近栅极一则。栅极一侧将产生不能移动的负离子区,形成耗尽层

当Uds=0,且Ugs继续增大,一方面耗尽层将变宽,另一方面将衬底的自由电子吸引到栅极与耗尽层之间 ,形成N型导电薄层,这里的负电荷数量远大于空穴数量(类似N型半导体)。在P型半导体上出现N型半导体,所以将N型导电薄层称为反型层。而反型层就构成DS之间的导电沟道,Ugs越大,反型层越厚,导电沟道电阻越小

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