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碳化硅 MOSFET:电力电子领域的 “明日之星” 技术全解析

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碳化硅 MOSFET:电力电子领域的 “明日之星” 技术全解析

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https://m.xianjichina.com/special/detail_563802.html

随着现代电力电子技术朝着高效、高功率密度、高温运行等方向不断发展,传统的硅基功率半导体器件逐渐面临性能瓶颈。碳化硅(SiC)作为一种宽禁带半导体材料,具有优异的物理特性,如高临界击穿电场、高电子饱和漂移速度、高热导率等,使得基于 SiC 的 MOSFET 器件在电力电子领域展现出巨大的应用潜力,成为近年来研究与产业化的热点。

SiC MOSFET 的技术路线

(一)材料特性与优势

SiC 的禁带宽度约为 3.2 - 3.4 eV,相比硅(Si)的 1.12 eV 大很多。这一特性使得 SiC MOSFET 能够承受更高的电压,理论上可实现数千伏的阻断电压,而硅基 MOSFET 通常在几百伏以内。同时,高禁带宽度赋予其更高的电子饱和漂移速度,有助于在高频下实现快速开关动作,降低开关损耗。此外,SiC 的高热导率(约为 4.9 W/cm・K,而硅约为 1.5 W/cm・K)可有效散发器件在工作过程中产生的热量,提高器件的可靠性和功率密度,使其能够在更高的温度环境下稳定运行,减少散热系统的体积和成本。

(二)器件结构发展

平面型结构

早期的 SiC MOSFET 多采用平面型结构。这种结构制造工艺相对简单,与传统硅基 MOSFET 工艺有一定的兼容性。在平面型 SiC MOSFET 中,源极、栅极和漏极位于同一平面上。然而,平面型结构存在一些固有缺陷,例如在高电压应用时,由于其电场分布不均匀,容易导致器件的击穿电压受限,同时沟道电阻较大,影响器件的导通特性,限制了其在高功率、高效率应用场景中的推广。

沟槽型结构

为克服平面型结构的不足,沟槽型 SiC MOSFET 应运而生。在沟槽型结构中,栅极被嵌入到 SiC 晶体的沟槽中。这种结构显著改善了电场分布,提高了器件的击穿电压能力。通过优化沟槽的形状、深度和宽度等参数,可以有效降低沟道电阻,从而提高器件的导通性能。与平面型相比,沟槽型 SiC MOSFET 在相同的耐压等级下,具有更低的导通电阻和更小的开关损耗,更适合于高压、大功率的电力电子应用,如电动汽车充电桩、光伏逆变器、电力机车牵引等领域。不过,沟槽型结构的制造工艺较为复杂,对工艺设备和工艺控制要求较高,增加了生产成本和制造难度。

(三)栅极氧化层技术

SiC MOSFET 的栅极氧化层是影响器件性能和可靠性的关键因素之一。由于 SiC 与二氧化硅(SiO₂)之间存在较大的晶格失配和热膨胀系数差异,在高温和高电场作用下,栅极氧化层容易出现界面陷阱、电荷陷阱等问题,导致器件阈值电压不稳定、沟道迁移率下降等不良现象。因此,研发高质量的栅极氧化层工艺技术至关重要。目前,主要的研究方向包括优化氧化层生长工艺,如采用高温氧化、后氧化退火等工艺手段来减少界面缺陷;采用特殊的栅极介质材料或栅极结构设计,如在 SiO₂中掺杂氮元素或引入高介电常数(High - k)栅极介质材料,以改善栅极氧化层的电学性能和可靠性,提高 SiC MOSFET 的长期稳定性和高温工作性能。

(四)封装技术

随着 SiC MOSFET 功率等级的不断提高,封装技术也面临着新的挑战。传统的功率半导体封装技术已难以满足 SiC MOSFET 的高功率密度、高散热要求。新型的封装技术不断涌现,例如采用直接银烧结(Direct Silver Sintering)技术替代传统的焊料焊接,可提高芯片与基板之间的热导率和连接可靠性;采用陶瓷封装材料代替塑料封装材料,能够提高封装的热稳定性和绝缘性能;同时,多芯片模块(MCM)封装技术也得到广泛应用,通过将多个 SiC MOSFET 芯片与驱动电路、保护电路等集成在一个模块中,减小了封装体积,降低了寄生电感和电容,提高了系统的功率密度和开关速度,进一步提升了整个电力电子系统的性能。

SiC MOSFET 的竞争格局

(一)国际主要厂商

英飞凌(Infineon)

英飞凌是全球功率半导体领域的领先企业,在 SiC MOSFET 技术研发和产业化方面投入巨大。其产品涵盖了不同电压等级和功率范围的 SiC MOSFET,广泛应用于电动汽车、工业电源、可再生能源发电等领域。英飞凌在 SiC 材料生长、器件制造工艺以及封装技术等方面拥有深厚的技术积累和丰富的经验。通过不断优化生产工艺和扩大产能,英飞凌在 SiC MOSFET 市场占据了重要的份额,并与众多汽车制造商、工业设备供应商建立了紧密的合作关系。例如,在电动汽车领域,英飞凌的 SiC MOSFET 被应用于车载充电器、电机驱动器等关键部件,其高效的性能有助于提升电动汽车的续航里程和充电速度。

意法半导体(STMicroelectronics)

意法半导体在 SiC 领域也具有较强的竞争力。它与汽车制造商和工业客户合作密切,致力于为其提供高性能的 SiC 解决方案。意法半导体在 SiC MOSFET 的技术创新方面表现突出,如在器件结构优化、栅极氧化层工艺改进等方面取得了多项专利技术。其产品在工业自动化、智能电网、新能源汽车等市场有着广泛的应用。意法半导体还积极与其他企业合作,共同推动 SiC 技术在全球范围内的普及和应用。例如,与汽车零部件供应商合作开发基于 SiC MOSFET 的电动汽车动力系统解决方案,提高了整个动力系统的效率和可靠性。

罗姆(ROHM)

罗姆在 SiC 功率器件领域有着长期的研究和开发历史,在 SiC MOSFET 产品的质量和性能方面具有较高的声誉。罗姆注重产品的小型化和高性能化,其 SiC MOSFET 产品在消费电子、工业设备、汽车电子等多个领域得到应用。罗姆在 SiC 材料制造技术上有独特的优势,能够稳定供应高质量的 SiC 衬底材料,为其 SiC MOSFET 的生产提供了坚实的基础。此外,罗姆还不断加大研发投入,开发新型的 SiC MOSFET 结构和工艺,以提高产品的竞争力,如研发出低导通电阻的沟槽型 SiC MOSFET 结构,满足了市场对高效率、高功率密度功率器件的需求。

(二)国内主要厂商

比亚迪半导体

比亚迪半导体作为比亚迪集团的子公司,在国内 SiC MOSFET 领域处于领先地位。比亚迪在新能源汽车领域的深厚底蕴为其 SiC MOSFET 的研发和应用提供了得天独厚的条件。比亚迪半导体致力于自主研发 SiC MOSFET 技术,其产品已在比亚迪的电动汽车中得到应用,如在电机控制器中采用 SiC MOSFET 替代传统的硅基 IGBT 器件,显著提高了电机系统的效率和功率密度,有助于提升电动汽车的整体性能。比亚迪半导体还在不断扩大产能,加强与国内高校和科研机构的合作,提升自身的技术研发水平,以在激烈的市场竞争中占据更大的份额。

斯达半导

斯达半导是国内功率半导体行业的重要企业,在 SiC MOSFET 的研发和产业化方面取得了显著进展。斯达半导与国际知名的半导体企业和科研机构保持着紧密的合作关系,通过技术引进和自主创新相结合的方式,不断提升其 SiC MOSFET 产品的性能和质量。其产品在工业控制、新能源发电、电动汽车等领域具有一定的市场份额。斯达半导注重研发投入,建立了完善的研发体系,在 SiC MOSFET 的器件设计、制造工艺、封装测试等环节不断进行技术优化,致力于为客户提供高性能、高可靠性的 SiC 功率半导体解决方案。

华润微

华润微在国内半导体行业拥有广泛的业务布局,其在 SiC MOSFET 领域也有积极的发展。华润微依托自身的半导体制造平台和技术研发实力,开展 SiC MOSFET 的研发和生产工作。其产品涵盖了不同电压等级和电流容量的 SiC MOSFET,可应用于电力电子系统的多个环节。华润微在 SiC 材料研发、器件工艺开发以及封装技术创新等方面都有相应的投入和成果,并且积极与下游企业合作,推动 SiC MOSFET 在国内电力电子市场的应用,为国内电力电子产业的升级和发展提供了有力的支持。

(三)竞争格局特点

技术竞争激烈

无论是国际还是国内厂商,都在 SiC MOSFET 的技术研发上投入大量资源,力求在材料生长、器件结构优化、栅极氧化层工艺、封装技术等关键环节取得突破,以提高产品的性能指标,如降低导通电阻、提高击穿电压、减小开关损耗、提升高温稳定性等。技术创新能力成为厂商在市场竞争中脱颖而出的关键因素,拥有先进技术的厂商能够在高端应用领域占据优势地位,获取更高的利润空间。

市场份额逐渐集中

随着 SiC MOSFET 市场的不断发展,市场份额逐渐向少数头部企业集中。国际上的英飞凌、意法半导体等企业凭借其先发优势、技术积累和品牌影响力,在全球市场占据了较大的份额。而国内企业虽然起步相对较晚,但在政策支持、市场需求推动以及自身技术努力下,也在逐步崛起,如比亚迪半导体等企业在国内市场以及部分国际市场细分领域开始崭露头角。未来,随着技术门槛的进一步提高和市场竞争的加剧,市场份额的集中趋势可能会更加明显。

应用领域拓展驱动竞争

SiC MOSFET 的应用领域不断拓展,从最初的工业电源、光伏逆变器等领域逐渐向电动汽车、智能电网、航空航天等高端领域延伸。不同应用领域对 SiC MOSFET 的性能要求有所差异,例如电动汽车领域更注重器件的功率密度和可靠性,以满足续航里程和车辆稳定性的需求;而工业电源领域则对成本和效率较为敏感。厂商需要根据不同应用领域的特点,开发针对性的产品和解决方案,这也促使了厂商之间在应用市场拓展方面的竞争加剧。

结论

SiC MOSFET 作为一种具有广阔应用前景的功率半导体器件,其技术路线在材料特性利用、器件结构优化、栅极氧化层改进以及封装技术创新等方面不断演进。在竞争格局方面,国际和国内众多厂商积极参与,呈现出技术竞争激烈、市场份额逐渐集中、应用领域拓展驱动竞争等特点。随着技术的不断进步和市场的持续发展,SiC MOSFET 有望在更多的电力电子应用领域实现大规模应用,推动电力电子技术朝着更高效率、更高功率密度和更可靠的方向发展。对于相关企业而言,持续的技术创新、合理的市场策略制定以及产业链上下游的协同合作将是在激烈竞争中取得成功的关键。

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