超声波清洗技术：增强靶材表面处理质量，提升薄膜制备一致性与均匀度

超声波清洗技术：增强靶材表面处理质量，提升薄膜制备一致性与均匀度

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靶材是制备高品质薄膜的关键材料，在科学实验和工业加工中有着广泛的应用。本文将详细介绍靶材的定义、组成、应用领域以及其在薄膜制备过程中的重要性。

靶材，也称为溅射靶材，是在高速荷能粒子轰击下作为目标材料的物质。通过不同的激光（离子光束）和不同的靶材相互作用得到不同的膜系，实现导电或阻挡等功能。靶材广泛应用于科学实验和工业加工中，如高能物理实验、材料分析、半导体制造、显示面板、太阳能电池、光学器件、磁记录等领域。

靶材通常由“靶坯”和“背板”组成，靶坯由高纯金属、合金、陶瓷或复合材料制成，背板则起到固定靶坯并导热导电的作用。

溅射工艺原理（来源：江丰电子招股书）

靶材是制备高品质薄膜的关键材料，其纯度必须达到99.95%以上，密度应达到理论密度的90%以上，且应具有均匀的形状与尺寸。此外，一个高洁净度和高光洁度的表面有利于实现均匀的膜层沉积。

在溅射镀膜过程中，若靶材表面附着有油污、灰尘、颗粒状杂质等异物，会引起电弧放电，导致靶材的一部分变为熔融态并向各个方向飞溅，附着在基板或已成膜的镀膜上，将降低镀膜质量，进而影响产品的合格率，导致生产成本增加。因此，必须对靶材进行充分的清洁，确保靶材的清洁度。