光刻机产业链，最正宗的9家公司

光刻机产业链，最正宗的9家公司

光刻机作为半导体制造的核心设备，其国产化进程一直备受关注。近期，上海微电子光刻机重大扩产计划通过，这证实了光刻机产业化正在加速扩产。本文梳理了光刻机产业链中9家核心公司，从光学系统、精密机械与控制系统、关键工艺设备以及后道服务生态四个方面，详细介绍了这些公司在技术突破、核心客户和国产替代价值等方面的进展。

通过对光刻机 “卡脖子” 的设备、零部件自主化替代的相关公司梳理，我们找到9家核心公司。以下是针对光刻机核心设备及零部件国产替代的9家关键企业的系统性梳理，按技术环节分类整理：

一、光学系统：光刻机“眼睛”

1. 茂莱光学（688502）

• 技术突破：28nm DUV光刻机物镜组面形精度达0.5nm RMS（国际领先），国内市占率62%
• 核心客户：上海微电子（SMEE）核心供应商，ASML二线合作方。
• 国产替代价值：突破物镜组超精密光学加工技术，填补国内空白。

2. 福晶科技（002222）

• 技术壁垒：全球唯一量产KBBF晶体（深紫外激光核心材料），EUV光源用晶体进入中科院验证阶段。
• 战略合作：获华为哈勃投资（持股5.2%），联合研发超快激光模块。
• 国产替代价值：打破美国对非线性光学晶体的技术封锁。

3. 苏大维格（300331）

• 技术突破：光刻机定位光栅良率提升至88%，独家供应SMEE光刻机对准系统。
• 国产替代价值：替代德国Heidenhain同类产品，成本降低40%。

二、精密机械与控制系统

4. 奥普光电（002338）

• 技术突破：超精密光栅编码器定位精度达0.08nm，应用于SMEE双工件台。
• 国产替代价值：对标荷兰ASML的RENISHAW编码器，精度差距缩至10%以内。

5. 同飞股份（300056）

• 技术突破：浸没式光刻机温控系统精度达±0.01℃，保障光刻机热稳定性。
• 核心客户：配套SMEE、中芯国际产线。

6. 新莱应材（300260）

• 技术突破：超高真空传输系统泄漏率控制达10⁻⁹ Pa·m³/s，国产化率从18%提升至45%。
• 核心客户：覆盖SMEE、北方华创、拓荆科技。

三、关键工艺设备

7. 蓝英装备（300293）

• 技术突破：覆盖前道晶圆清洗与光学元件清洗设备，颗粒残留控制小于0.1μm
• 核心客户：SMEE、蔡司（光学镜头清洗）。

8. 晶方科技（603005）

• 技术突破：光刻机光路检测模组通过ASML认证，2024年出货1.2万套
• 国产替代价值：替代美国KLA-Tencor检测模块，价格优势达30%。

四、后道服务生态

9. 东方嘉盛（002889）

• 业务突破：国内首个光刻机保税维修中心落地，2024年维修业务营收增长217%
• 核心价值：破解ASML设备“只卖不修”限制，降低国内晶圆厂维护成本。

总结：国产替代逻辑与投资看点

1. 技术壁垒：光学（茂莱、福晶）、精密机械（奥普光电）环节突破难度最大，替代空间超百亿。
2. 客户绑定：绑定SMEE产业链企业（苏大维格、新莱应材）优先受益国产光刻机放量。
3. 增量市场：维修服务（东方嘉盛）、检测设备（晶方科技）随存量设备增长爆发。