光刻胶：半导体国产替代核心材料，产业链全景解析
光刻胶：半导体国产替代核心材料，产业链全景解析
光刻胶是半导体制造中的关键材料，被誉为电子化学品产业的"皇冠上的明珠"。随着半导体技术的不断进步和存储器层数的增加，光刻胶市场需求持续增长。然而，这一领域长期被日美企业垄断，中国企业在高端光刻胶领域的突破备受关注。本文将为您解析光刻胶产业链的现状与未来发展趋势。
光刻胶是半导体制造中三大类核心材料之一，包括PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。全球半导体晶圆厂的扩产带动了光刻胶市场的增长。从产业链来看，光刻胶的上游是核心原材料（树脂、光引发剂、溶剂），中游是光刻胶生产厂商，下游是光刻胶的应用领域。其中，树脂和半导体光刻胶是重点关注环节。
在产业格局方面，PCB光刻胶领域中低端产品已实现国产替代，但高端产品仍被日美企业垄断。半导体光刻胶市场更是高度集中，前六大厂商中除了杜邦为美国厂商外，其他均为日本厂商，全球市占率约80%。日本东京应化占据头部位置，美国杜邦、日本JSR、住友化学占据腰部位置。
当前，国内半导体产业高速发展，为国产光刻胶企业带来了发展机遇。国内光刻胶企业多分布在技术难度较低的PCB光刻胶领域，占比超9成。在技术难度最大的半导体光刻胶市场，仅有彤程新材（北京科华）、华懋科技（徐州博康）、南大光电、晶瑞电材和上海新阳等少数几家企业具备实力。
其中，彤程新材全资子公司彤程电子受让北京科华微电子33.70%的股权。北京科华微电子成立于2004年8月，是国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司，也是国内唯一一家拥有高档光刻胶自主研发及生产实力的国家级高新技术企业。彤程新材KrF光刻胶量产品种达20种以上，其上海化学工业区工厂已逐步进入试生产阶段，设计年产1000吨半导体光刻胶，其中包括年产300/400吨ArF及KrF光刻胶。
南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。上海新阳投资设立的控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司，专注于193nm（ArF）干法光刻胶的研发及产业化项目。
光刻胶产业链上下游布局相关公司众多，代表厂商还包括雅克科技、永太科技、江化微、芯源微、七彩化学、万润股份、华特气体、新莱应材、盛剑环境、鼎龙股份、怡达股份、广信材料、八亿时空、晶瑞电材、炬光科技、飞凯材料、晶方科技、百川股份等。
随着国外大厂断供造成国内光刻胶供需短缺持续紧张，以及半导体供应链安全问题日益严重，光刻胶的国产替代窗口逐步打开。国产高端光刻胶有望从0到1实现技术突破，逐步导入供应链，国内大厂有望抓住国产替代窗口进入上升的拐点。
值得注意的是，扬帆新材在投资者互动平台表示，目前公司所生产的光引发剂产品整体仍处于历史低位，并未出现价格暴涨的情况。公司近期具体的经营情况敬请关注公司后续定期报告。
光刻机概念股持续上攻，蓝英装备、扬帆新材、容大感光、强力新材、茂莱光学、上海新阳、晶瑞电材等连续上涨。